c.DIFF X ist centrotherms etablierte und vielseitig einsetzbare Diffusionsplattform für eine stabile Emitterbildung in der Hochleistungs-Solarzellenfertigung. Das zuverlässige Niederdrucksystem kommt sowohl bei der Herstellung von kristallinen p-Typ- als auch n-Typ-Solarzellen zum Einsatz.
Mit zehn Prozessrohren und einer Auslegung für Waferdurchmesser bis 210 mm ist c.DIFF X speziell für Hersteller mit Multi-GW-Kapazitäten in der hocheffizienten p-Typ-Solarzellenproduktion entwickelt worden.
Aufgrund seiner breiten und flexibel anpassbaren Prozessfähigkeit erzielt c.DIFF X reproduzierbare Ergebnisse hinsichtlich der Emitterhomogenität – auch bei hohen Flächenwiderständen von bis zu 400 Ω/□.
Zu den technischen Vorteilen der Batch-Anlage zählen die flexible Anpassung an unterschiedliche Produktionsauslastungen und Prozessabfolgen sowie der fortgesetzte Betrieb bei Wartung, Abschaltung oder Prozessoptimierung einzelner Rohre.
Je nach spezifischen Produktionsanforderungen bietet centrotherm verschiedene Konfigurationen, etwa in Bezug auf Betriebsdruck, Kapazität und Automatisierungsgrad.
Prozesse
- (Niederduck-) Diffusion (POCl3, BCl3)
- Nass- / Trockenoxidation (optional: DCE, HCl)
- Annealing (z.B. N2, H2)
- Weitere Prozesse auf Anfrage
Optionen
- Prozessrohre und -boote aus Siliziumcarbid
Features & Benefits
- Präzise Diffusionsergebnisse auf beiden Waferseiten
- Sehr homogene Emitterprofile und hohe Flächenwiderstände (bis 400 Ω/□)
- Geringer Verbrauch an Medien und Versorgungsressourcen (bis zu 50 % BCl₃-Einsparung)
- Fortschrittliches Wasserkühlsystem zur Vermeidung thermischer Wechselwirkungen zwischen den Prozessrohren
- Prozessierung in voneinander unabhängigen Rohren ermöglicht Redundanz und hohe Anlagenverfügbarkeit
- Höchste Reinheit durch reine Gasphasen-Diffusion ohne Rückstände
- Schneller Wechsel der Gasatmosphäre erleichtert die Umsetzung neuer Diffusionsrezepte und die Feinabstimmung der Emitterprofile
